QUÍMICA
La industria química se caracteriza por la fiabilidad y precisión de los sistemas de monitoreo. Nuestra gama de equipos de procesos, emisiones y ambiente nos permite cumplir con los requisitos y necesidades de la industria química.
La diversidad de tecnologías nos permite adaptarnos a todas las situaciones que podemos encontrar. Medida de gases, partículas y caudal, control de la combustión, eficiencia energética, medición de trazas, sistemas de control de proceso para la medida de humedad, nivel en silos, control de los elementos de transporte de materiales, equipos de seguridad personal y espacios confinados, calidad del aire, partículas en suspensión.
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MEDIDOR DE CAUDAL EN SOLIDOS SOLIDFLOW 2.0
Read moreMedición continua del caudal másico de todo tipo de polvo, polvos y gránulos en caída libre y transporte neumático.
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MONITOR DE CAUDAL AEREODESLIZADORES
Read moreSensor de microondas para la monitorización sin contacto del flujo de material en deslizadores de aire. Fácil de instalar, proporciona información de tendencias con una salida de 4… 20 mA.
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MONITOR DE PARTICULAS CON DETECCION DE FUGAS EN EL FILTRO
Read moreMonitor de fugas de polvo de filtro basado en controlador (0-100%) para el control de emisiones de filtro después de filtros de mangas, filtros de cartucho, ciclones, etc., donde no se requieren aprobaciones de rendimiento.
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MONITOR DE PARTICULAS LEAK LOCATE 320
Read moreMonitor de fugas de polvo de filtro basado en controlador (0-100%) para el control de emisiones de filtro después de filtros de mangas, filtros de cartucho, ciclones, etc.
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MONITOR DE PARTICULAS OPACIMETRO ENVEA STACK 602
Read moreMonitor de partículas DynamicOpacity™ aprobado por TÜV para la medición de emisiones de polvo de grandes procesos industriales secos, incluidos filtros de mangas y precipitadores electrostáticos.
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MONITOR DE PARTICULAS OPACIMETRO ENVEA VIEW 580
Read moreMonitor de polvo óptico independiente Cross Stack adecuado para medir emisiones después de precipitadores electrostáticos y chimeneas sin sistemas de filtración.
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MONITOR DE PARTICULAS PARA APLICACIONES ESPEIALES ENVEA VIEW 800
Read moreMonitor de polvo de filtro autónomo aprobado por TÜV adecuado para la medición de emisiones de filtro después de filtros de mangas, filtros de cartucho, ciclones, etc.
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MONITOR DE PARTICULAS PARA APLICACIONES ESPEIALES ENVEA VIEW 820
Read moreMonitor de polvo de filtro autónomo aprobado por TÜV adecuado para la medición de emisiones de filtro después de filtros de mangas, filtros de cartucho, ciclones, etc.
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MONITOR DE PARTICULAS PARA EMISIONES ENVEA STACK QAL 991
Read moreEl modelo STACK PCME 991 es un sistema de medida de partículas en continuo para procesos industriales donde se requiera cumplir los estándares europeos EN14181 y EN13284-2. El equipo cumple también los requerimientos indicados en la EN 15267-3.
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MONITOR DE PARTICULAS ENVEA STACK 990
Read moreMonitor de partículas aprobado por TÜV que proporciona una medición de emisiones de alta calidad para concentraciones bajas de polvo de procesos industriales secos, incluidos filtros de mangas y filtros de cartucho.
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MONITOR DE PARTICULAS ENVEA VIEW 273
Read moreMonitor de polvo multisensor para la tendencia indicativa de emisiones en chimeneas industriales después de filtros de mangas, filtros de cartucho, ciclones y secadores de proceso, donde las aprobaciones regulatorias no son necesarias.
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MONITOR DE PARTICULAS ENVEA VIEW 370
Read moreMonitor de polvo multisensor diseñado para la medición de emisiones de alta calidad en chimeneas industriales después de filtros de mangas, filtros de cartucho, ciclones y secadores de proceso.
