Industria
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MONITOR DE PARTICULAS PARA EMISIONES ENVEA STACK 980
Leer másEl monitor PCME STACK 980 es un sistema de medida de partículas en continuo para emisiones industriales utilizando el conocido sistema de medida electrodinámico.
Este principio de medida está ampliamente utilizado en procesos industriales después de la presencia de filtros de mangas, cartuchos, ciclones y driers. -
MONITOR DE PARTICULAS PARA EMISIONES ENVEA STACK QAL 991
Leer másEl modelo STACK PCME 991 es un sistema de medida de partículas en continuo para procesos industriales donde se requiera cumplir los estándares europeos EN14181 y EN13284-2. El equipo cumple también los requerimientos indicados en la EN 15267-3.
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MONITOR DE PARTICULAS PARA EMISIONES QAL 1 DCEM2100
Leer másEl modelo DCEM2100 es un monitor con el principio de medida óptico para la medida de la concentración de partículas en procesos industriales.
El modelo DCEM2100 posee la certificación TÜV/MECERTS – QAL1, para procesos industriales para poder cumplir con la EN 15267. -
MONITOR DE PARTICULAS ENVEA STACK 990
Leer másMonitor de partículas aprobado por TÜV que proporciona una medición de emisiones de alta calidad para concentraciones bajas de polvo de procesos industriales secos, incluidos filtros de mangas y filtros de cartucho.
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MONITOR DE PARTICULAS ENVEA VIEW 273
Leer másMonitor de polvo multisensor para la tendencia indicativa de emisiones en chimeneas industriales después de filtros de mangas, filtros de cartucho, ciclones y secadores de proceso, donde las aprobaciones regulatorias no son necesarias.
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MONITOR DE PARTICULAS ENVEA VIEW 370
Leer másMonitor de polvo multisensor diseñado para la medición de emisiones de alta calidad en chimeneas industriales después de filtros de mangas, filtros de cartucho, ciclones y secadores de proceso.
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MONITOR DE PARTICULAS PROSENS
Leer másProporciona valores de medición continuos para la concentración de polvo como una señal de tendencia o valores absolutos.
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MONITOR DE ROTURA DE MANGAS CON TENDENCIA ENVEA LEAK ALERT 73
Leer másMonitor de fugas de polvo de filtro independiente (0-100%) para el control de emisiones de filtro después de filtros de mangas, filtros de cartucho, ciclones, etc., donde no se requieren aprobaciones de rendimiento.