Química
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MONITOR DE PARTICULAS EN EMISIONES
Leer másMonitor de partículas para emisiones backscatter con certificación QAL1.
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MONITOR DE PARTICULAS LEAK LOCATE 320
Leer másMonitor de fugas de polvo de filtro basado en controlador (0-100%) para el control de emisiones de filtro después de filtros de mangas, filtros de cartucho, ciclones, etc.
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MONITOR DE PARTICULAS OPACIMETRO ENVEA STACK 602
Leer másMonitor de partículas DynamicOpacity™ aprobado por TÜV para la medición de emisiones de polvo de grandes procesos industriales secos, incluidos filtros de mangas y precipitadores electrostáticos.
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MONITOR DE PARTICULAS OPACIMETRO ENVEA VIEW 580
Leer másMonitor de polvo óptico independiente Cross Stack adecuado para medir emisiones después de precipitadores electrostáticos y chimeneas sin sistemas de filtración.
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MONITOR DE PARTICULAS PARA APLICACIONES ESPEIALES ENVEA VIEW 800
Leer másMonitor de polvo de filtro autónomo aprobado por TÜV adecuado para la medición de emisiones de filtro después de filtros de mangas, filtros de cartucho, ciclones, etc.
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MONITOR DE PARTICULAS PARA APLICACIONES ESPEIALES ENVEA VIEW 820
Leer másMonitor de polvo de filtro autónomo aprobado por TÜV adecuado para la medición de emisiones de filtro después de filtros de mangas, filtros de cartucho, ciclones, etc.
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MONITOR DE PARTICULAS PARA EMISIONES ENVEA STACK QAL 991
Leer másEl modelo STACK PCME 991 es un sistema de medida de partículas en continuo para procesos industriales donde se requiera cumplir los estándares europeos EN14181 y EN13284-2. El equipo cumple también los requerimientos indicados en la EN 15267-3.
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MONITOR DE PARTICULAS ENVEA STACK 990
Leer másMonitor de partículas aprobado por TÜV que proporciona una medición de emisiones de alta calidad para concentraciones bajas de polvo de procesos industriales secos, incluidos filtros de mangas y filtros de cartucho.